2024年一季度，ASML财报上出现让管理层坐立难安的数字：对华销售额占比从49%跌至27%。
2024年1月，荷兰光刻机巨头ASML的财报显示了一个让投入资产的人震惊的数据：中国市场占比从连续三季度的46%、47%、47%突然跌至27%。
这个数字像一面镜子，照出了这家全球光刻设备霸主的尴尬处境：一边是美国持续施压下的出口管制枷锁，一边是中国市场这块不得不抓的摇钱树。
新任CEO克里斯托夫·富凯上任后在《华尔街日报》采访中直言不讳：施加的限制越多，就越会促使对方自力更生。
这句话与其前任彼得·温宁克的警告如出一辙。2023年初温宁克就在财报会上敲过警钟：出口管制会促使中国成功开发出自己的技术。
ASML的焦虑不是没有道理。回溯到2023年，当出口封锁的风声刚透出来时，中国客户立刻启动战略性囤货，短期内让ASML的订单量激增，但明眼人都看出来，这不过是提前透支未来市场。
更让ASML揪心的是其在中国的维护业务，数千台已部署设备的定期保养和零部件更换，早已成为公司稳定的现金流来源。一旦连这些服务都被政治力量限制，ASML与中国市场最后的纽带也将断裂。
温宁克在2023年9月的行业论坛上说得很实在：中国有足够的人才，也有足够资源找到替代方案。
当时不少西方媒体还将其视为商业游说，直到清华大学的SSMB-EUV方案逐渐浮出水面，人们才意识到这位老CEO的预判有多精准。
2025年，ASML预计中国业务降到20%左右，但实际的需求比预想强，第三季度中国占了42%。公司否认这是囤货引起的，说是政策和宏观需求的作用。
这种对比让ASML股价在2024年10月的一天直接大跌8.33%，270亿美元市值凭空蒸发。
富凯后来讲，中国落后先进的技术10-15年，但成熟节点需求稳得一批，短期内ASML还得靠中国吃饭。
管制越严，中国客户囤货越猛，ASML表面风光，内部其实捏把汗，怕哪天连备件和服务都卡死，那才是真断粮。
2021年2月，清华大学唐传祥教授团队在《自然》期刊发表了一篇论文，题目是稳态微聚束原理的实验演示，这项成果为EUV光刻提供了全新可能。
杂志评论称其结合了同步辐射光源与自由电子激光的双重特性，这个看似高深的学术成果，背后有着深刻的现实背景。
传统EUV光刻机之所以被称为人类工业皇冠上的明珠，核心卡在极端小型化的光源系统上。ASML用了几十年时间，整合了全球供应链的顶尖技术才实现商业化，其光源系统涉及数万零部件的精密集成，专利壁垒密不透风。
中国要走同样的路，无异于从零开始跟跑几十年，这显然不现实。但中国人的智慧恰恰在于不按常理出牌——既然造不出光刻机，那就直接建光刻工厂。
清华大学牵头的SSMB-EUV方案，正是这条独特路径的核心。这个2017年就启动的项目，背后有着国际合作的基因。当年7月，清华教授唐传祥与斯坦福大学赵午组织首届SSMB合作会议，联合中、德、美等国科研人员攻关。
由于实验对电子束控制精度要求极高，团队先后8次前往柏林，利用德国PTB的MLS储存环开展研究。2019年8月，实验取得关键突破：用1064纳米激光操控电子束，让其在48米周长的储存环内绕圈后形成精微的微聚束结构。
线年的进展——SSMB-EUV光源输出功率突破1千瓦，光学腔稳定锁定时间超过4小时。这两个关键指标意味着光刻工厂从概念走向现实有了基础技术支撑。
这种重资产、高产能的模式，恰恰契合了中国在特高压、高铁等领域证明过的系统集成能力。就像当年建设高铁网络时那样，中国不追求每个零部件都从零研发，而是在关键环节集中突破，再通过系统集成形成整体优势。
唐传祥教授在接受媒体采访时谨慎表示：EUV光刻机的自主研发还有非常长的路要走，但SSMB光源为突破核心瓶颈提供了全新思路。
这种谨慎背后是清醒的认知——光刻工厂确实面临挑战，巨额的初始投资、漫长的建设周期、对运营模式的严格要求，都考验着中国的产业耐力。
但这些挑战在国家战略需求面前，反而成了发挥制度优势的舞台。国家层面，今年2月11日，中国投370亿欧元，支持本土极紫外光刻系统开发。
系统计划2025年第三季度试生产，2026年批量制造。华为在东莞测试部件，结合自研芯片推进。
与ASML的EUV光刻机不同，SSMB方案不是把复杂系统压缩到一台机器里，而是通过大型加速器设施产生稳定的极紫外光，用规模化、集中化的思路解决光源难题。
今年7月，清华大学在极紫外光刻胶材料聚碲酮上取得新突破，补上了产业链中的又一块短板。这一进展让整个方案的商业化前景更加明朗。
整个思路就是把最难的光源部分集中解决，下游曝光站简单多了，成本降一大截，还适合中国搞大基地的那套工程化打法。
从成本对比看，ASML一台EUV光刻机要1.2亿美元，维护一次就得几百万。而光刻工厂是流水线作业，把曝光、显影等步骤整合在一起，连续生产，绍兴的配套项目投产后，批量生产能大幅度降低成本，适合大规模制造。
更重要的是，ASML的光源功率已经快到极限了，再提升难度极大。而SSMB技术的光源，波长能覆盖到极紫外波段，光强还能提升，未来造更先进的芯片也有空间。
这就好比传统光刻机是手动挡，光刻工厂是自动挡，越往后优势越明显。我们的光刻工厂，核心技术是自己的，配套设备也在国产化。
产业链正在协同推进，比如光刻胶，以前高端产品全靠进口，现在湖北有家公司的ArF/KrF光刻胶已经通过评估，拿到了晶圆厂订单，实现了全流程国产化。
恒坤新材更厉害，募资15亿建生产基地，它的KrF光刻胶已经批量供应12英寸产线吨/年。
设备方面，上海微电子的600系列光刻机，已经实现90nm工艺批量生产，打破了国外限制。2024年9月，他们还公布了极紫外光刻设备的发明专利，说明在EUV技术上也没掉队。
芯片制造端，中芯国际2025年3月17日官宣，FinFET第一代技术已量产。这些突破和光刻工厂相互配合，形成了完整的产业闭环。
整个产业链2000多家企业抱团，成本能压到ASML六成左右。国家层面把这当重大基础设施推，选址雄安之类的地方，目标就是千瓦级装置。
ASML新任CEO富凯现在面临着比温宁克更棘手的局面。美国不仅要求限制设备出口，还试图干预在华设备的维修服务。富凯无奈地指出：如果我们不在那里，我们就会失去控制。
这种失控感正在变成现实——当中国客户不再依赖ASML的设备和服务，当光刻工厂开始稳定输出极紫外光，全球半导体产业的格局将被重新定义。
ASML的焦虑本质上是所有依赖中国市场的西方高科技企业的缩影：政治力量强行切断商业纽带，最终只会倒逼被封锁者走出一条更具韧性的道路。
从温宁克2023年的警告到富凯2024年的焦虑，ASML的态度转变折射出一个简单的事实：在高科技领域，封锁从来不是长久之计。
中国没选复制ASML的技术路线，而是用自己擅长的系统工程思维另辟蹊径。光刻工厂的建设过程或许充满挑战，但它承载的不仅是打破技术封锁的希望，更是一种产业高质量发展模式的创新。
当ASML还在政治与市场之间艰难平衡时，中国的科研团队已经在雄安的土地上埋下了突破的种子。这场较量的结局或许还需要一些时间验证，但有一点已经清晰——试图用限制来遏制创新，最终只会加速被超越的进程。
10月15日，ASML报告净销售75亿欧元，全年预计会增长15%，靠先进芯片和AI投资顶着，但中国部分会显著下滑，到2026年更明显。
富凯2025年讲，中国需求比预期强，但2026年肯定大降，因为客户把能买的都买完了，再加上管制越收越紧。
短期ASML还赚服务钱，长期呢，中国这条集中式工厂一旦跑通，先进芯片生产就从买机器变成建电站，规则全变了。
ASML垄断单机模式的日子，怕是要到头了。说白了，封锁把路堵死，反而逼出新路子。
中国不硬抄ASML老路，玩系统工程这一套，接地气又狠。2025年这些样机、测试、参数图一出来，ASML股价波动得厉害，高层讲话也慢慢变得谨慎。
巨头慌不慌？数据摆在那，中国市场占比从36%掉到20%，服务还能撑多久，谁也不知道。反正半导体这盘棋，现在越来越有意思了。
